众所周知，光刻机技术一直是我国半导体技术的一块心病，到目前为止，我国最先进的光刻机精度仅仅才90nm,而其他国家的7nm光刻机相比真的差得太多了。虽然我们在光刻机技术上没有取得特别好的成就，F f ) X - $ | S不过却在光刻机的兄弟刻蚀机取得看重大突破。
对于G L & H | J w芯片制造有所了解的人都知道，芯片制造有两个非常重要的设备，一个是ASML的EUV光刻机，另一个就是刻蚀机，而这两个设备占据了芯片制造H - % U C & 1工序的70%，所以，缺少任何一种设备就会导致芯片^ e 2 ]制造产业备受限制。不过就在今年的年初，中国率先制造出了与光刻机配套的5nm刻蚀机，占领了全球5nm刻蚀机的制高点。这次的突破也意味着中国在刻蚀机领域J 9 k达到了全球领先，而做到这一步V $ 0 b c I 8 S =的企业就是中微电子。
中微电子是我国唯一在芯片制造领域率先突破的一家企业，目前中微公司生^ t 7 P S i C产的5nm刻蚀机已成功进入台积电产业链，很快就可以N : a投资量产，到时候中国也将成为半导体一大巨头。在之前这都是不敢想的事情，中国可以这么快的赶超其他国家成为顶尖，由此可见，中国的技术是V } k *非常顶尖的，虽然现在在光刻机技术上与其他国家相差比较远，但是p W E O J p ; |相信很快就可以再次突破，登峰g u y ~ T Q q造极！
根据消息+ + z % 4 u ? s，目前ASML公司X j ] l H l R 8 !已经开始向5nm工艺进发，接下来就是5 # x U -投入到生产苹A14芯片、骁龙875以及麒麟1020，这些芯片都将使用5nm技术，而到那个时候，中国的5nm刻蚀机也已经开始量产，这样的话别国一些芯片制造商就很有可能来进口中国的刻蚀机，到时候我国的经济发展也将更进一步。
此次5nm刻蚀机的成功破冰也意味着中国制造又一次的超9 u b越那些发达国家，突破他们, P v 9 8 d * L的封锁。从此以后，我国就可以不再花大价钱去购买别国的刻蚀机。虽然刻蚀机已经成功突破，但是光L i : 1刻机技术的发展还需更加努力，不过大家都相信在我国的科研人员的努力下，总有一天光刻机也会有巨大突破。